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2020专利申请注册事项须知

2019-11-26 09:25:02  来源:互联网

摘要:专利申请注册时,申请人必须了解申请的条件、要求、材料等等信息,才能正确并顺利的申请成功。为此,小编为大家准备了注册事项须知。
关键词: 一体知识产权
         专利申请注册时,申请人必须了解申请的条件、要求、材料等等信息,才能正确并顺利的申请成功。为此,小编为大家准备了注册事项须知。

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一、申请专利的条件

1、申请专利的发明创造应当具备新颖性、创造性和实用性。

2、对违反国家法律、社会公德或者妨害公共利益的发明创造,不授予专利权:

二、发明与实用专利需提交技术交底书

1、技术交底书的要求

(1)应清楚、完整地写明发明或实用新型的内容;

(2)使所属技术领域的普通技术人员能够根据此内容实施发明创造;

(3)使上述人员相信本发明确实可以解决现有技术不能解决的问题。

2、技术交底书的内容

(1)发明创造的名称;

(2)所属技术领域;

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三、外观设计专利须提交图片或照片

1、图片、照片的要求

(1)图片或照片的尺寸不得小于3厘米×8厘米,并不得大于15厘米× 2厘米;

(2)图片必须用电脑绘制或正规制图工具绘制;

(3)各个视图的比例必须一致;

(4)图片或照片中不得包含有不能作为要求保护的外观设计具体内容的图形、文字,如人物肖像、商标、标志、名著、著名建筑物等,或者不得包含有应删除的线条,如视图中的阴影线、指示线、虚线、中心线、尺寸线等。

2、图片或照片的内容

(1)提交主视图、后视图、俯视图、仰视图、左视图、右视图;

(2)产品设计要点仅涉及一个或几个面的,可以仅提交所涉及面的正投影视图和立体图;就平面外观设计产品而言,产品设计要点涉及一个面的,可以仅提交该面正投影视图;产品设计要点涉及两个面的,应当提交两面正投影视图。

(3)可以增加立体图和使用状态参考图;

(4)可以增加剖视图和剖面图;

(5)图片或照片各一式一份。

 

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